Photoresist의 Sensitivity와 Photospeed

1. Sensitivity
Photoresist(PR)의 빛에 대한 민감도
PR내에 존재하는 성분들이 빛에 대해 어느 정도 민감한가를 나타내는 척도로서, PR을 구성하는 감광제의 종류 및 함량, Resin의 광투과도의 영향을 받는다. 이중 감광제의 반응 속도(bleaching)가 sensitivity에 매우 큰 영향을 미친다. 이는 PR의 UV흡광도로 확인할 수 있다.

 2. Photospeed
 Photoresist(PR)가 Pattern을 형성하기 위해 필요로 하는 빛의 양
임의의 공정조건에서 형성된 Pattern을 기준으로 하는 빛에 대한 감도를 말하며, Line 또는 설비별로 다를 수 있으며, 현상(Develop) 공정의 영향도 많이 받는다. 기준은 현상하여 PR이 Pattern을 형성하는 최소 광량(Eth)를 기준으로 한다.

 3. Sensitivity와 Photospeed
두가지의 PR이 있다고 가정하자. 두 PR의 Sensitivity가 유사하다면, 동일한 감광제 및 함량을 사용하고 있다고 볼 수 있다. 그런데 Photospeed가 차이가 난다면, 이는 현상 공정에 의한 차이로 볼 수 있다. 감광제가 동일하다면, Resin에서 차이가 있다는 것을 유추할 수 있다. 통상 Resin의 분자량이 증가하면 현상속도가 느려지면서 Photospeed가 느려진다. 반대로 분자량이 감소하면 현상속도가 빨라져서 Photospeed도 빨라진다.